|
个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
扫描关注
Ar/H_2/SiCl_4大气压射频等离子体射流的光谱诊断
点击次数：
论文类型：会议论文
发表时间：2009-07-20
页面范围：1
关键字：等离子体射流;Ar/H_2/SiCl_4;等离子体参数;多晶硅薄膜;沉积薄膜;反应气体;沉积工艺;硅原子;放电功率;气体放电;
摘要：多晶硅薄膜太阳能电池所用多晶硅薄膜的沉积工艺备受关注。以SiCl_4和H_2为反应气体,Ar为载气,利用大气压射频等离子体射流辅助沉积多晶硅薄膜是一种崭新的方法。科学地诊断用于沉积薄膜的等离子体参数可以为沉积工作提供有力的支持。