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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
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射频等离子体增强磁控溅射沉积Al2O3膜
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论文类型：期刊论文
发表时间：1993-01-01
发表刊物：大连理工大学学报
收录刊物：PKU、CSCD
卷号：33
期号：6
页面范围：644
ISSN号：1000-8608
关键字：高频放电/Al2O3膜;射频等离子体;等离子体增强磁控溅射沉积
摘要：采用射频等离子体增强磁控溅射同步沉积，在金属表面制备了Ａｌ２Ｏ３ 膜．实验表明，采用本方法在工艺上是可行的，膜与基材结合性能好。