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教授
博士生导师
硕士生导师
任职 : 《Plasma Science and Technology》学术期刊编委
性别：男
毕业院校：大连工学院
学位：硕士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
办公地点：主楼东侧楼（物理系楼）304室
联系方式：0411-84707981
电子邮箱：wangdez@dlut.edu.cn
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Plasma source ion implantation （PSII） and PSII enhanced film deposition
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论文类型：期刊论文
发表时间：1993-01-01
发表刊物：Chinese Physics Letters
收录刊物：CSCD
卷号：10
期号：增刊
页面范围：355
ISSN号：0256-307X
关键字：离子注入; 等离子体源; 薄膜; 淀积