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论文类型：期刊论文

发表时间：2015-03-20

发表刊物：表面技术

收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD

卷号：44

期号：3

页面范围：111-115

ISSN号：1001-3660

关键字：电化学合成;聚吡咯;铜;腐蚀

摘要：目的：在铜表面制备聚吡咯涂层,研究其在3.5％(质量分数) NaCl溶液中的耐腐蚀性能。方法采用恒电位法、恒电流法和循环伏安法在铜表面制备聚吡咯薄膜,用扫描电子显微镜观察聚吡咯膜形貌,用动电位极化曲线、长期浸泡实验研究铜表面聚吡咯膜的防腐蚀情况。结果三种方法都可以在铜表面形成结构致密、结合力较好的呈菜花状结构的聚吡咯膜。聚吡咯膜在3.5％(质量分数) NaCl溶液中的极化曲线与空白铜不同,形成了钝化区。在60 min,0.659 V和60 min,1 mA条件下制备的聚吡咯膜的腐蚀电位与空白铜片相比,分别提高了约50 mV和150 mV,阳极溶解电流密度比空白铜片均降低了1个数量级。在长期浸泡实验中,带有聚吡咯膜的铜片的腐蚀速度低于空白铜片。结论聚吡咯膜可以延缓铜片的腐蚀,恒电位法制备的聚吡咯膜具有更优良的耐蚀性能。