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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2010-10-01

发表刊物： 新型炭材料

收录刊物： PKU、ISTIC、CSCD、SCIE、EI

卷号： 25

期号： 5

页面范围： 357-362

ISSN号： 1007-8827

关键字： 高掺硼金刚石膜;气体压强;偏流;热灯丝化学气相沉积;扫描电镜;X射线衍射仪;拉曼光谱

摘要： 采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜.利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征.结果显示:当气体压强从3kPa降低到1. 5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善.但是继续降气体压强,从1.5kPa到 0.5kPa时,却呈现出相反的趋势.固定气体压强(1. 5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多.