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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2008-12-01

发表刊物： 物理学报

收录刊物： EI、PKU、ISTIC、CSCD、SCIE、Scopus

卷号： 57

期号： 12

页面范围： 7806-7813

ISSN号： 1000-3290

关键字： 密度泛函理论;电子结构;Be掺杂ZnO

摘要： 采用密度泛函理论结合投影缀加波方法,对Be掺杂导致ZnO禁带宽度增加的机理进行了研究.通过对掺杂前后电子能带结构、总态密度以及分态密度的计算和比较,发现导带底(CBM)是由Be 2s电子与Zn 4s电子共同控制;而BexZn1-xO价带顶 (VBM)始终由O 2p电子占据.随着掺杂量的增加,决定带隙宽度的CBM的位置上升,同时VBM的位置下降,从而导致了带隙的变宽,出现了蓝移现象.此外,Be掺杂会使晶胞发生压缩,这种压应变也是导致BexZn1-xO禁带宽度变宽的原因之一.