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个人信息Personal Information
研究员
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：微机电工程. 机械制造及其自动化. 精密仪器及机械
办公地点：大连理工大学西部校区机械学院大方楼6029
联系方式：大连理工大学机械工程学院
电子邮箱：jsliang@dlut.edu.cn
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磁控溅射制备氮化钽导电薄膜及其性能研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2018-08-21
发表刊物：电子元件与材料
卷号：37
期号：8
页面范围：36-39
ISSN号：1001-2028
关键字：反应溅射;氮化钽薄膜;氮分压;物相结构;热处理;电阻率
摘要：为了研制应用于超高温薄膜传感器的敏感层,采用直流磁控反应溅射,在硅基底上制备了氮化钽薄膜.研究了氮分压对薄膜微观结构和电阻率的影响.采用X射线衍射仪测试了氮化钽薄膜的物相结构,采用场发射扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌和断面形貌.利用半导体参数测试系统和三维手动探针台测量了氮化钽薄膜的电阻率.结果表明:在2％氮分压下,薄膜的物相结构为TaN0.1,在3％氮分压下,薄膜的物相结构为Ta2 N,而当氮分压在4％～6％的情况下,薄膜的物相结构为TaN.采用真空烘箱对氮化钽薄膜进行高温热处理.结果表明,薄膜电阻率从(80～433)×10-6Ω·cm提升到了(120～647)×10-6Ω·cm.