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发布时间：2019-03-10

论文类型：期刊论文

发表时间：2003-06-25

发表刊物：光学精密工程

收录刊物：CSCD、ISTIC

卷号：11

期号：3

页面范围：270-275

ISSN号：1004-924X

关键字：执行器;压电陶瓷;迟滞;非线性

摘要：从微观上系统分析了电致伸缩效应、逆压电效应和铁电效应的位移机理,表明:三种效应的位移机理是根本不同的;压电陶瓷执行器的位移主要是由逆压电效应、铁电效应所引起的,电致伸缩效应对位移的贡献极其微弱,可以忽略不计;单纯的逆压电效应是线性的,而铁电效应则是迟滞非线性的.指出了非180°电畴转向与转向的不完全可逆,分别是造成压电陶瓷执行器非线性和迟滞的根本原因.通过实验研究了驱动电压幅值、驱动电压频率、驱动循环次数及晶片厚度对压电陶瓷执行器迟滞和非线性的影响.