Hits:
Indexed by:会议论文
Date of Publication:2007-08-01
Page Number:1
Key Words:尘埃等离子体;碳化硅薄膜;常温;脉冲调制射频等离子体
Abstract:本文用一套生成尘埃等离子体的设备在常温下沉积出碳化硅薄膜,工作气体为硅烷和乙烯,载气为氩气,沉积出的碳化硅薄膜为多晶膜；同时我们进行了用脉冲调制射频等离子体沉积碳化硅薄膜的初步实验,比较了不同调制频率对沉积
Pre One:激发频率对硅烷等离子体放电参数的影响
Next One:大气压氦气介质阻挡放电模式转换的研究
