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Indexed by: Conference Paper

Date of Publication: 2007-08-01

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Key Words: 尘埃等离子体;碳化硅薄膜;常温;脉冲调制射频等离子体

Abstract: 本文用一套生成尘埃等离子体的设备在常温下沉积出碳化硅薄膜,工作气体为硅烷和乙烯,载气为氩气,沉积出的碳化硅薄膜为多晶膜；同时我们进行了用脉冲调制射频等离子体沉积碳化硅薄膜的初步实验,比较了不同调制频率对沉积