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等离子体源离子注入装置中离子到达靶表面的能量和角分布

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:1995-01-01

Journal:自然科学进展

Included Journals:CSCD

Volume:5

Issue:1

Page Number:71

ISSN No.:1002-008X

Key Words:等离子体源离子注入; 能量分布; 蒙特卡罗模拟

Abstract:等离子体源离子注入,是将待注入的靶直接浸入等离子体源中,靶上施加一系列负高压脉冲,离子在变化的电场中获得能量后注入靶中,建立了离子的蒙特卡罗模拟模型,考虑了离子与中性粒子的电荷交换碰撞和弹性散射,模拟了不同气压下氮离子(N_2~+)到达靶表面的能量分布和入射角分布。

Pre One:气体放电空心阴极鞘层氩离子的蒙特-卡罗模拟研究

Next One:Numerical simulation of temporal and spatial sheath evolution in plasma source ion implantation