Current position: Home >> Scientific Research >> Paper Publications

等离子体源离子注入装置中离子到达靶表面的能量和角分布

Release Time:2019-03-11  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 1995-01-01

Journal: 自然科学进展

Included Journals: CSCD

Volume: 5

Issue: 1

Page Number: 71

ISSN: 1002-008X

Key Words: 等离子体源离子注入; 能量分布; 蒙特卡罗模拟

Abstract: 等离子体源离子注入,是将待注入的靶直接浸入等离子体源中,靶上施加一系列负高压脉冲,离子在变化的电场中获得能量后注入靶中,建立了离子的蒙特卡罗模拟模型,考虑了离子与中性粒子的电荷交换碰撞和弹性散射,模拟了不同气压下氮离子(N_2~+)到达靶表面的能量分布和入射角分布。

Prev One:气体放电空心阴极鞘层氩离子的蒙特-卡罗模拟研究

Next One:Numerical simulation of temporal and spatial sheath evolution in plasma source ion implantation