射频等离子体增强磁控溅射沉积Al2O3膜
Release Time:2019-03-11 Hits:
Indexed by: Journal Article
Date of Publication: 1993-01-01
Journal: 大连理工大学学报
Included Journals: CSCD、PKU
Volume: 33
Issue: 6
Page Number: 644
ISSN: 1000-8608
Key Words: 高频放电/Al2O3膜;射频等离子体;等离子体增强磁控溅射沉积
Abstract: 采用射频等离子体增强磁控溅射同步沉积，在金属表面制备了Ａｌ２Ｏ３ 膜．实验表明，采用本方法在工艺上是可行的，膜与基材结合性能好。