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Indexed by:期刊论文
Date of Publication:1993-01-01
Journal:大连理工大学学报
Included Journals:PKU、CSCD
Volume:33
Issue:6
Page Number:644
ISSN No.:1000-8608
Key Words:高频放电/Al2O3膜;射频等离子体;等离子体增强磁控溅射沉积
Abstract:采用射频等离子体增强磁控溅射同步沉积，在金属表面制备了Ａｌ２Ｏ３ 膜．实验表明，采用本方法在工艺上是可行的，膜与基材结合性能好。
