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论文类型：会议论文

发表时间：2006-08-01

页面范围：487-490

关键字：稀土掺杂;Al2O3光学薄膜;光致发光;溶胶凝胶法;控制干燥;光波导薄膜;浸渍提拉工艺

摘要：非水溶胶-凝胶(sol-gel)法浸渍提拉工艺在热氧化SiO2/Si(110)基体上制备了Er3+-Yb3+共掺Al2O3光学薄膜.在溶胶中加入干燥控制剂N,N-二甲基甲酰胺(DMF)抑制了Al2O3薄膜在高浓度稀土离子掺杂导致的开裂.DMF的加入量与Al(OC3H7)3的摩尔比为1∶1,20次循环提拉干燥,1000℃烧结得到均匀、致密、无开裂、厚度在1.5-1.6 μm的光学薄膜.薄膜光致发光(PL)测量得到1.400-1.700 μm波段以1.53 μm为中心的强发光.DMF对薄膜开裂的控制作用是因为胶粒表面的-Al-OH在DMF作用下发生了脱质子过程,导致胶粒之间进一步聚合,增强了凝胶膜的力学强度。