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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：化工学院
学科：化学工程. 水科学与技术
办公地点：西部校区化工综合楼A503
联系方式：gchliu@dlut.edu.cn
电子邮箱：gchliu@dlut.edu.cn
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含锡锑中间层的析氧阳极的制备及性能研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：2008-10-15
发表刊物：电镀与涂饰
收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD
卷号：27
期号：10
页面范围：51-54
ISSN号：1004-227X
关键字：氧化物涂层钛阳极;铱钽涂层;锡锑中间层;析氧
摘要：从延缓涂层钛阳极基体钝化的角度出发,采用热分解法制备了含SnO2-Sb2O5中间层的钛基铱钽电极.利用扫描电镜、X射线衍射、能谱等方法对Ti/SnO2-Sb2O5/IrO2-Ta2O5阳极表面的形貌,相结构、元素组成和电化学性能进行了分析.结果表明,Ti/SnO2-Sb2O5/IrO2-Ta2O5阳极的使用寿命较Ti/IrO2-Ta2O5阳极有大幅度的提高,并且具有更高的电催化活性.Ti/SnO2-Sb2O5/IrO2-Ta2O5是一种在酸性环境中非常具有前景的析氧阳极.