Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2010-05-15

Journal: 真空科学与技术学报

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU、EI

Volume: 30

Issue: 3

Page Number: 265-269

ISSN: 1672-7126

Key Words: 磁控溅射;磁场分布;ANSYS;磁感应强度

Abstract: 磁场结构在磁控溅射技术中起着重要的作用.本文利用ANSYS软件模拟计算磁场的磁感应强度及其分布,并分析、比较不同方案中的磁场分布变化规律.计算结果与实测值吻合,并且显示随着与靶面距离的增加磁感应强度减弱的特征,其中在双靶磁场并顶部磁场只有S极的结构中,磁场中磁感应强度最强.