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Indexed by:期刊论文
Date of Publication:2010-05-15
Journal:真空科学与技术学报
Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD
Volume:30
Issue:3
Page Number:265-269
ISSN No.:1672-7126
Key Words:磁控溅射;磁场分布;ANSYS;磁感应强度
Abstract:磁场结构在磁控溅射技术中起着重要的作用.本文利用ANSYS软件模拟计算磁场的磁感应强度及其分布,并分析、比较不同方案中的磁场分布变化规律.计算结果与实测值吻合,并且显示随着与靶面距离的增加磁感应强度减弱的特征,其中在双靶磁场并顶部磁场只有S极的结构中,磁场中磁感应强度最强.
