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发布时间：2019-03-10

论文类型：期刊论文

发表时间：2006-08-12

发表刊物：物理

收录刊物：CSCD、ISTIC、PKU

卷号：35

期号：8

页面范围：693-698

ISSN号：0379-4148

关键字：等离子体;刻蚀;电容耦合放电;电感耦合放电;双频;鞘层

摘要：介绍了等离子体刻蚀工艺背景以及有关等离子体刻蚀机理的研究进展,综述了等离子体刻蚀机理的研究方法,着重阐述了电容耦合放电和电感耦合放电等离子体物理特性,特别是双频电容耦合放电等离子体和等离子体鞘层研究中的关键问题.