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    王友年

    • 教授     博士生导师   硕士生导师
    • 性别：男
    • 毕业院校：大连工学院
    • 学位：硕士
    • 所在单位：物理学院
    • 学科：等离子体物理
    • 办公地点：大连理工大学物理系楼306
    • 联系方式：0411-84707307
    • 电子邮箱：ynwang@dlut.edu.cn

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    Atomic layer etching of SiO2 under Ar/C4F8 plasmas with pulsed bias

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    论文类型：会议论文

    发表时间：2015-01-01


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