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磁控溅射制备TiO2薄膜的抗凝血性能

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2007-01-15

Journal:材料导报

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:21

Issue:1

Page Number:145-147

ISSN No.:1005-023X

Key Words:TiO2薄膜;磁控溅射;抗凝血性能

Abstract:用射频磁控溅射法在生物玻璃基片上沉积TiO2薄膜.通过研究基片温度和热处理对薄膜表面抗凝血性能的影响,比较了基片沉积薄膜前后抗凝血性能的变化,结果发现,在基片温度为500℃制得的TiO2薄膜的抗凝血性能较好,而导致薄膜表面抗凝血性能变化的主要原因在于薄膜表面能、表面结构和形貌的变化.

Pre One:Si(001)基片上反应射频磁控溅射ZnO薄膜的两步生长方法

Next One:生长温度对Ge2Sb2Te5薄膜的相变行为以及微观结构的影响