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基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2006-06-20

Journal:材料科学与工程学报

Included Journals:ISTIC、CSCD

Volume:24

Issue:3

Page Number:382-385

ISSN No.:1673-2812

Key Words:TiO2薄膜;基片温度;原子力显微镜;表面形貌;表面性能

Abstract:利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能.最后,探讨了薄膜的生长机理.

Pre One:生长温度对Ge2Sb2Te5薄膜的相变行为以及微观结构的影响

Next One:Optical and electrical properties of Zn1-xZdxO films grown on Si substrates by reactive-frequency magnetron sputtering