Hits:
Indexed by:会议论文
Date of Publication:2013-08-15
Page Number:1
Key Words:感应耦合;Ar/Cl_2;电不稳定;特性模拟;半导体制造;均匀性;放电空间;电子密度;分子亚稳态;离子流;
Abstract:感应耦合等离子体(ICP)具有低气压、高密度以及均匀性好等优点,在半导体制造工业中得到了广泛应用。混合气体(如Ar/Cl_2)更广泛用于薄膜的刻蚀,尤其是多晶硅的刻蚀。然而,混合气体的应用会带来很多问题,如负离子的出现会改变离子流、电子密度、放电空间结构,引起放电不稳定等。所以理论研究Ar/Cl_2混合气体等离子体特性对实际应用有重要的意义。
