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个人信息Personal Information
教授
硕士生导师
性别：女
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
联系方式：0411-84707866
电子邮箱：xcli@dlut.edu.cn
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射频感应耦合等离子体的模式跳变及偏压效应的实验研究
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论文类型：会议论文
发表时间：2013-08-15
页面范围：290-290
关键字：等离子体密度;离子能量;等离子体源;工作气压;刻蚀工艺;感应耦合;辅助加工;半导体芯片;电子密度;发光强度;
摘要：引言射频感应耦合等离子体源(ICP)具有等离子体密度高(10~(11)-10~(12)cm~(-3))、工作气压低(0.1-100 mTorr)、独立的控制离子能量和等离子体密度及装置结构简单等优点,从而被广泛地应用于等离子体辅助加工领域,尤其是应用于半导体芯片刻蚀工艺。众所周知,ICP存在两种运行模式:E模式和H模式。E模式是由线圈两端的电压降来