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个人信息Personal Information
教授
硕士生导师
性别：女
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：物理学院
学科：等离子体物理
联系方式：0411-84707866
电子邮箱：xcli@dlut.edu.cn
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射频感应耦合Ar/Cl_2等离子体特性模拟研究
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论文类型：会议论文
发表时间：2013-08-15
页面范围：1
关键字：感应耦合;Ar/Cl_2;电不稳定;特性模拟;半导体制造;均匀性;放电空间;电子密度;分子亚稳态;离子流;
摘要：感应耦合等离子体(ICP)具有低气压、高密度以及均匀性好等优点,在半导体制造工业中得到了广泛应用。混合气体(如Ar/Cl_2)更广泛用于薄膜的刻蚀,尤其是多晶硅的刻蚀。然而,混合气体的应用会带来很多问题,如负离子的出现会改变离子流、电子密度、放电空间结构,引起放电不稳定等。所以理论研究Ar/Cl_2混合气体等离子体特性对实际应用有重要的意义。