Current position: Home >> Scientific Research >> Patents

一种施加复合电磁场的金属连续铸造方法

Release Time:2022-10-20  Hits:

First Author: 李廷举

Disigner of the Invention: 金俊泽,张兴国,曹志强,姚山,郑贤淑

Institution: 材料科学与工程学院

Application Number: CN1288790

Authorization Number: CN99120824.2

Prev One:一种施加复合场改善水平连铸坯质量

Next One:一种复层管坯的水平电磁连续铸造装置及方法