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论文类型：期刊论文

发表时间：2005-08-28

发表刊物：激光技术

收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD

卷号：29

期号：4

页面范围：440-442,445

ISSN号：1001-3806

关键字：中频溅射;镱铒共掺;光致发光光谱;光波导

摘要：在硅单晶(100)衬底上用热氧化法氧化一层SiO2做缓冲层,在高纯铝靶上镶嵌金属Yb,Er,然后用中频磁控溅射法制备了镱铒共掺杂氧化铝薄膜.讨论了靶电压及沉积速率随氧流量的变化的磁滞回线效应,分析得出了沉积氧化物薄膜的最佳氧流量.在室温下检测到了薄膜的位于1535nm的很强的光致发光光谱(PL),并在光学掩模下用BCl3离子束对薄膜样品进行刻蚀,得到条形光波导.