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论文类型：期刊论文

发表时间：2005-07-20

发表刊物：光学技术

收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

卷号：31

期号：4

页面范围：519-521,524

ISSN号：1002-1582

关键字：掺铒Al2O3薄膜;中频磁控溅射;光致发光特性;退火温度

摘要：利用中频磁控溅射方法沉积制备了掺铒Al2O3薄膜,室温下测量了薄膜在1535nm波长处的光致发光光谱和抽运功率、掺铒浓度、退火温度对光致发光光谱强度的影响.结果表明,在真空气压为2×10-1Pa,氩气流量为70cm3/s,氧气流量为25～45cm3/s的条件下,最佳掺铒浓度为1.0at%,最佳退火温度为850℃.