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Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2013-01-15

Journal: 精细化工

Included Journals: CSCD、ISTIC、PKU

Volume: 30

Issue: 1

Page Number: 61-63

ISSN: 1003-5214

Key Words: HfCl4;NaBH4;KBH4;脱氧反应;亚砜;硫醚;医药原料

Abstract: 对HfCl4/NaBH4体系下亚砜的脱氧还原反应进行了研究.考察了溶剂、温度、摩尔比等因素对该反应的影响.结果表明,在HfCl4/NaBH4体系下,当溶剂为四氢呋喃(THF)、n(底物)∶n(HfCl4)∶n(NaBH4)=0.8∶0.34∶4.0时,亚砜回流反应0.6～1.5 h,脱氧还原得收率88％ ～ 99％的硫醚产物.此外,在上述脱氧反应过程中,—NO2,—OMe,—F,—Cl,—Br等宫能团具有兼容性.该法对二苯基亚砜、二苄基亚砜尤为适合,收率高达98％ ～ 99％.