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Date of Publication:2004-12-30

Journal:染料与染色

Volume:41

Issue:6

Page Number:325-326,370

ISSN No.:1672-1179

Key Words:电喷雾质谱;源内CID;络合染料;铼联吡啶络合物;钌联吡啶络合物

Abstract:利用电喷雾质谱(ESI-MS)的源内CID(in-source Collision Induced Degradation, in-source CID)对2, 2'-联吡啶-4, 4'-二羧酸乙酯与铼络合染料(化合物1)和钌络合染料(化合物2)进行研究, 表征了络合物及其配体的相对稳定性结果表明,随CID电压的升高, 化合物1的吡啶配体容易脱落,并形成稳定的联吡啶三羰基配位离子[(4, 4'-(COOEt)2-bpy)Re(CO)3]+; 而化合物2在较高的CID电压下会发生联吡啶环上取代基的中性丢失, 其单电荷离子比二价电荷离子稳定.