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Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2004-12-30

Journal: 染料与染色

Volume: 41

Issue: 6

Page Number: 325-326,370

ISSN: 1672-1179

Key Words: 电喷雾质谱;源内CID;络合染料;铼联吡啶络合物;钌联吡啶络合物

Abstract: 利用电喷雾质谱(ESI-MS)的源内CID(in-source Collision Induced Degradation, in-source CID)对2, 2'-联吡啶-4, 4'-二羧酸乙酯与铼络合染料(化合物1)和钌络合染料(化合物2)进行研究, 表征了络合物及其配体的相对稳定性结果表明,随CID电压的升高, 化合物1的吡啶配体容易脱落,并形成稳定的联吡啶三羰基配位离子[(4, 4'-(COOEt)2-bpy)Re(CO)3]+; 而化合物2在较高的CID电压下会发生联吡啶环上取代基的中性丢失, 其单电荷离子比二价电荷离子稳定.