Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Conference Paper

Date of Publication: 2004-11-05

Page Number: 110-112

Key Words: 电喷雾质谱;源内CID;络合染料;铼联吡啶络合物;钌联吡啶络合物;光敏染料

Abstract: 利用电喷雾质谱(ESI-MS)的源内CID(in-source Collision Induced  Degradation,in-soure CID)对2,2'-联吡啶-4,4'-二羧酸乙酯与铼络合染料(化合物1)和钌络合染料(化合物2)进行研究,表征了络合物及其配体的相对稳定性.