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论文类型：期刊论文

发表时间：1997-09-20

发表刊物：计算物理

收录刊物：PKU

期号：Z1

页面范围：350

ISSN号：1001-246X

关键字：离子输运;微波等离子体;ECR;鞘层;中性区;二次电子发射;数值模拟;数值方法;

摘要：建立了ＥＣＲ微波等离子体源离子输运的平板和柱面模型，对离子历经的空间区域的输运过程进行了数值研究。在平板模型下，采用ＭＣ方法模拟了离子离开放电室后历经中性区、鞘层区，最后被加负偏压的工件表面吸收的全过程。考虑了离子与中性粒子的电荷交换碰撞和弹性散射，统一处理了中性区和鞘层区电势的衔接。先前方法是采用经验公式，连接不光滑，理论上也不自洽。采用曲线拟合，电势自洽的方法成功地把中性区和鞘层区衔接起来，得到自洽电势分布和鞘层区不同位置处的速度分布、能量分布及角分布。在圆柱模型下，提出了二次电子发射形成“屏蔽区”的概念，讨论了磁场、气压以及二次电子发射对鞘势的影响。