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Date of Publication:2015-11-01

Key Words:光波导耦合器;聚合物波导;多模干涉

Abstract:　　850nm波段聚合物波导以成本低、损耗小等优势在光学生化检测领域具有广阔的应用.本论文基于聚合物PSQ-Ls材料和微纳米压印制备工艺，对850nm多模干涉(MMI)结构2×2光波导耦合器进行了优化设计.采用RSoft软件的BPM仿真模块分析了输入/输出波导单模条件、波导间距，以及多模波导的宽度、长度等结构参数对2×2耦合器的附加损耗和不均衡度的影响.通过在单模波导与多模波导连接处引入等腰梯形的渐变结构，获得了低附加损耗、高均衡度的优化结构参数，设计得到器件的附加损耗和不均衡度分别为-0.040dB和-0.007dB.讨论并分析了在微纳米压印工艺中不同残留层厚度的条件下，制备尺寸偏差对器件性能的影响，研究结果为器件制备提供了有益参考.