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教授
博士生导师
硕士生导师
性别：女
毕业院校：东北大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化. 微机电工程. 机械电子工程
办公地点：西部校区机械学院新大楼6009房间
电子邮箱：duliqun@dlut.edu.cn
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SU-8光刻胶与Ni基底结合性的分子模拟
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论文类型：期刊论文
发表时间：2010-03-15
发表刊物：高分子材料科学与工程
收录刊物：PKU、ISTIC、CSCD、EI
卷号：26
期号：3
页面范围：168-171
ISSN号：1000-7555
关键字：SU-8光刻胶;Ni基底;结合能;分子动力学模拟
摘要：运用分子动力学模拟软件Materials Studio针对SU-8胶与Ni基底的结合性进行模拟分析,计算了不同前烘温度下SU-8胶与Ni(100)面的结合能,发现在343K的前烘温度下,光刻胶与基底的界面结合能达到最大,说明此时界面结合最好.通过对SU-8胶与Ni基底的相互作用能分析,发现影响结合能的主要因素是两种分子之间的范德华力,其中色散力起主要作用,其值是排斥力的近两倍.