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论文类型：期刊论文

发表时间：2013-03-15

发表刊物：纳米技术与精密工程

收录刊物：ISTIC、CSCD、Scopus

卷号：11

期号：2

页面范围：152-158

ISSN号：1672-6030

关键字：灰度掩模;设计算法;铺路法;任意形状图形;ObjectARX

摘要：灰度掩模技术是制作三维微纳结构的有效方法之一,灰度掩模图设计是灰度掩模技术的重要组成部分.目前,在微机械器件制作领域中,通常只给出常用规则形状三维结构对应的灰度掩模图的设计方法,对于任意形状图形的灰度掩模图设计鲜有报道.本文综合灰度光刻技术中的编码原理和有限元法中的铺路法,提出了适合于任意形状图形的灰度掩模图设计算法,解决了误差处理和图形闭合两个关键问题,给出了算法及图形的评价方法,并利用AutoCAD二次开发工具ObjectARX研究了算法的程序实现,构建了灰度掩模图的设计系统.利用该系统设计了多幅常规规则形状和任意形状灰度掩模图,结果表明,该系统可以高效地设计任意形状图形的灰度掩模.研究工作为任意形状图形灰度掩模图的设计提供了一种新方法,可以提高灰度掩模图的设计效率,为三维微纳器件的制作提供技术积累.