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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2007-12-15

Journal:人工晶体学报

Included Journals:Scopus、PKU、ISTIC、CSCD

Volume:36

Issue:6

Page Number:1372-1376,1398

ISSN No.:1000-985X

Key Words:热丝化学气相沉积;多晶硅薄膜;择优取向;晶化率;晶体形貌

Abstract:采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜.利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜(AFM)研究了灯丝与衬底间距(5～10mm),灯丝温度(1800～1400℃)和衬底温度(320～205℃)对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律.结果表明,随着热丝与衬底间距增加,多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小;随热丝温度的降低,薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律:先不断增大后突然大幅减小.