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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2007-11-01

Journal:物理学报

Included Journals:SCIE、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:56

Issue:11

Page Number:6537-6542

ISSN No.:1000-3290

Key Words:钛合金;微弧氧化;电学参量;氧化膜

Abstract:利用自制的数据采集系统研究了恒定电压下TC4钛合金微弧氧化(MAO)过程中有关电学参量随处理时间的变化规律. 结果表明,通电回路中的阴极和阳极峰值电流随处理时间的变化明显分为4个阶段;膜厚度随处理时间的变化明显分为3个阶段;氧化膜的动态正、反向电阻和动态正、反向电阻率也随处理时间分阶段变化. MAO过程中,各时刻的动态正、反向电阻值不同,一般情况下,动态正向电阻大于反向电阻. 对不同处理时间样品的扫描电子显微镜分析表明,MAO膜呈多孔结构并随处理时间变化.