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铜上采用过渡层沉积类金刚石薄膜的研究

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2006-07-01

Journal:物理学报

Included Journals:SCIE、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:55

Issue:7

Page Number:3748-3755

ISSN No.:1000-3290

Key Words:铜基体;类金刚石膜;过渡层;拉曼光谱

Abstract:将等离子增强非平衡磁控溅射物理气相沉积(PEUMS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRPECVD)技术相结合,通过制备不同的过渡层,在铜基上成功地制备了类金刚石膜.拉曼光谱分析表明,所制备的碳膜具有典型的类金刚石结构特征.检测结果表明,随着沉积偏压的增大,D峰和G峰均向高波数漂移,ID/IG值增大,表面粗糙度减小,而平均硬度和弹性模量呈先增大后减小的趋势.

Pre One:通过制备Ti/TiC和Si/SixNy过渡层在铜基体上沉积类金刚石膜的研究

Next One:固相微萃取/气相色谱/质谱法研究新建建筑室内挥发性有机化合物的组成及其特征