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论文类型：期刊论文

发表时间：2006-09-30

发表刊物：真空科学与技术学报

收录刊物：EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

卷号：26

期号：5

页面范围：397-403

ISSN号：1672-7126

关键字：类金刚石膜;铜基体;过渡层;拉曼光谱(Raman);原子力显微镜(AFM);纳米压痕

摘要：将磁控溅射物理气相沉积(MS-PVD)和电子回旋共振-微波等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术相结合,在铜基体上通过制备丽种不同的过渡层,成功地沉积了类金刚石膜.拉曼光谱结果分析表明,所制备的碳膜都具有典型的类金刚石结构特征.通过原子力显微镜对薄膜的微观形貌进行分析,采用纳米压痕测量薄膜的硬度和模量.并对Ti/TiC过渡层和Si/SixNy过渡层上沉积的类金刚石薄膜进行了研究对比.