谭毅Yi Tan

(教授)

 博士生导师  硕士生导师
学位:博士
性别:男
毕业院校:东京工业大学
所在单位:材料科学与工程学院
电子邮箱:tanyi@dlut.edu.cn

论文成果

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电子束熔炼冶金级硅除铝研究

发表时间:2019-03-11 点击次数:

论文名称:电子束熔炼冶金级硅除铝研究
论文类型:期刊论文
发表刊物:材料研究学报
收录刊物:Scopus、EI、PKU、ISTIC、CSCD
卷号:24
期号:6
页面范围:592-596
ISSN号:1005-3093
关键字:无机非金属材料; 硅; 电子束熔炼; 分凝; 挥发
摘要:采用电子束熔炼工艺提纯了冶金级硅材料. 硅中重要杂质元素Al在制备铸锭中的分布不均匀,呈现出由底部到顶部、由边缘到中心的富集趋势.
   铸锭边缘部位的杂质Al含量最低,已经低于ICP-AES的探测极限(1*10~(-5)%). 对杂质Al的挥发去除过程进行了理论分析.
   由Langmuir方程和Henry定律导出了杂质Al的去除率与熔体表面温度、熔炼时间的关系式,该关系式表明杂质Al的去除率会随着熔体表面温度升高
   、熔炼时间延长而增加,其理论计算值与实测结果符合的较好
发表时间:2010-01-01