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    段玉平

    • 教授     博士生导师   硕士生导师
    • 主要任职:国际教育学院院长、直属党支部书记、留学生办公室主任
    • 其他任职:辽宁省凝固控制与数字化制备技术重点实验室副主任
    • 性别:男
    • 毕业院校:大连理工大学
    • 学位:博士
    • 所在单位:材料科学与工程学院
    • 学科:材料加工工程
    • 办公地点:铸造中心213
    • 联系方式:0411-84708446
    • 电子邮箱:duanyp@dlut.edu.cn

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    TaN单层及Ta/TaN不同调制周期多层薄膜力学性能研究

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    论文类型:会议论文

    发表时间:2012-09-13

    页面范围:115-119

    关键字:单层TaN薄膜;Ta/TaN多层薄膜;调制周期;力学性能

    摘要:  单层TaN薄膜及由柔性Ta及硬TaN层组成的多层Ta/TaN薄膜通过ECR增强直流磁控溅射在不锈钢基体上制备,所有的TaN及Ta/TaN薄膜均制备200 min.薄膜厚度及薄膜的截面形貌通过扫描电镜观测,化学结构通过XRD测试,硬度,模量,塑性及结合力分别通过纳米压痕及划痕实验进行测定.结果表明,TaN择优取向为六方010),(300),Ta层为010),(300).单层TaN展现最高硬度,接近40GPa,但结合力较低.5周期的多层薄膜呈现了较高的硬度,最好的塑性及结合力.证明合适的调制周期及层数可以有效地提高薄膜的力学性能,包括硬度,塑性及结合力.