基于离线激光诱导击穿光谱方法的HL-2A石墨瓦沉积层初步分析
Release Time:2019-03-12 Hits:
Indexed by: Journal Article
Date of Publication: 2018-06-15
Journal: 核聚变与等离子体物理
Volume: 38
Issue: 2
Page Number: 170-176
ISSN: 0254-6086
Key Words: 激光诱导击穿光谱;石墨;HL-2A偏滤器;等离子体与材料相互作用
Abstract: 对HL-2A偏滤器靶板和固定孔栏位置的石墨瓦进行了离线激光诱导击穿光谱(LIBS)测量,比较分析了沉积行为,初步得到了不同位置沉积层粒子种类(Fe、Si、H、D等元素)及其深度的变化.与飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)所得结果进行了对比,发现离子深度变化形貌趋同.根据沉积层有效信号激光数,得到激光烧蚀速率约为270nm/脉冲.