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冶金法制备太阳能级多晶硅研究现状及发展趋势

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2013-03-20

Journal:材料工程

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD

Issue:3

Page Number:90-96

ISSN No.:1001-4381

Key Words:光伏产业;冶金法;提纯;太阳能级多晶硅

Abstract:冶金法是我国走出硅原料依赖,发展低成本、环境友好的太阳能级多晶硅制备技术的必经之路,冶金法自诞生以来在世界范围内经历了三次研究高潮,第三次正是在以我国科研和产业工作者为主导和推动下发展的,并形成了大量有益的科学结论和实践经验.本文从冶金法的界定开始,详细分析了冶金法提纯的理论基础,饱和蒸汽压机理、偏析机理和氧化性差异机理,介绍了以上机理所衍生出的技术方法及进展,并对冶金法的发展前景进行了展望.

Pre One:Effect of tin addition on primary silicon recovery in Si-Al melt during solidification refining of silicon

Next One:Removal of Boron from Molten Silicon using Na2O-CaO-SiO2 Slags