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First Author:Dayu ZHOU
Disigner of the Invention:马晓倩,pengcong,杨旭,王静静,sunnana,Wu Zhanjun
Affilication of Author(s):材料科学与工程学院
Application Number:ZL 2018 1 0375969.5
Pre One:一种采用反应磁控溅射制备二氧化铪基铁电薄膜的方法
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