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低稳恒磁场对锡锌基合金液与铜片界面反应的影响

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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2009-01-01

Journal:机械工程材料

Included Journals:PKU、ISTIC、CSCD

Volume:33

Issue:5

Page Number:76-79

ISSN No.:1000-3738

Key Words:稳恒磁场; 锡锌基合金; 液固界面反应; 金属间化合物

Abstract:利用SEM、XRD等方法研究了0.1
   T低稳恒磁场对锡锌合金液/铜片和锡锌铜舍金液/铜片的界面反应过程中金属间化合物(IMC)层的生长、晶体取向以及形貌的影响.结果表明:界面IMC层
   的厚度随反应时间的延长而增加;在0.1
   T磁场下,锡锌合金液/铜片和锡锌铜合金液/铜片的界面IMC层的生长均受到抑制;同时磁场抑制了IMC晶粒的粗化,使IMC颗粒更加细小致密;0.1
   T磁场抑制了锡锌合金液/铜片界面处Cu_5Zn_8(330)的取向度,但对锡锌铜合金液/铜片的界面晶粒取向度影响并不很明显.

Pre One:Kinetics of intermetallic compound layers and shear strength in Bi-bearing SnAgCu/Cu soldering couples

Next One:The growth behaviours of IMC layers in solid-liquid interfacial reactions of Sn1.5Cu/Cu in high magnetic fields