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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2006-10-30

Journal:光学精密工程

Included Journals:EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:14

Issue:5

Page Number:764-770

ISSN No.:1004-924X

Key Words:激光清洗;硅片;清洗效率;Al2O3颗粒

Abstract:以KrF准分子激光器为激光源,对目前工业上常用的硅片研磨抛光液的主要成分Al2O3颗粒进行激光清洗的试验和理论分析.建立一维热传导模型,利用有限元分析软件MSC.MarC模拟硅片表面的温度随激光作用时间和能量密度的分布.通过理论计算,量化了颗粒所受到的清洗力以及其与硅片表面之间的粘附力,理论预测出1 μm Al2O3颗粒的激光清洗阈值为60 mJ/cm2.在理论分析的指导下,利用248 nm、30 ns的KrF准分子激光进行单因素试验,研究激光能量密度、脉冲个数、激光束入射角度对激光干法清洗效率的影响,并且实验验证了清洗模型以及场增强效应对激光清洗结果的影响.