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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2008-01-25

发表刊物： 真空

收录刊物： PKU、ISTIC

卷号： 45

期号： 1

页面范围： 48-50

ISSN号： 1002-0322

关键字： 热丝化学气相沉积;微晶硅薄膜;光学带隙

摘要： 采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜,利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段,系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响,运用Tacu法则对薄膜的透射率和厚度进行计算分析,得到薄膜光学带隙与沉积气压之间的关系,结果表明薄膜的光学带隙随着沉积气压的升高而单调下降.