副教授 博士生导师 硕士生导师
其他任职：辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学
材料表面工程
办公地点：新三束4#楼311室
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发布时间：2019-03-11
论文类型：期刊论文
发表时间：2010-01-01
发表刊物：材料研究学报
收录刊物：EI、Scopus、CSCD、ISTIC、PKU
卷号：24
期号：5
页面范围：547-549
ISSN号：1005-3093
关键字：材料合成与加工工艺; 微晶硅薄膜; Ar稀释SiH4; 微波功率
摘要：以Ar+SiH4作为反应气体,用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR
PECVD)方法制备微晶硅薄膜,研究了微波功率对薄膜中H含量、薄膜的沉积速率、择优取向和结晶度的影响.
结果表明,在300℃制备低温微晶硅薄膜,随着微波功率的增大,薄膜的沉积速率先增大后减小,微波功率为600
W时达到最大;而结晶度和薄膜中的H含量则分别呈现单调增大和单调减少的趋势;使用不同的微波功率,薄膜的择优取向均为(111)方向
