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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2011-05-11

发表刊物： 金属学报

收录刊物： Scopus、SCIE、EI、PKU、ISTIC、CSCD

卷号： 47

期号： 05

页面范围： 628-633

ISSN号： 0412-1961

关键字： 磁控溅射;Al-Mg-B薄膜;硬度;B_(12)二十面体

摘要： 采用多靶磁控共溅射技术,利用高纯度Al,Mg和B单质靶材为溅射源,室温下在单晶Si(100)表面上成功制备了低摩擦系数的非晶态Al-Mg-B硬质薄膜.通过改变Al/Mg混合靶体积配比及靶材溅射功率来调控薄膜成分,最终制备的Al-Mg-B薄膜成分接近AlMgB_(14)相的元素成分比,其Vickers硬度约为32 GPa.XRD及HR-TEM分析表明.制备的薄膜均为非晶态XPS测试表明薄膜内部存在B-B及Al-B单键;FTIR进一步测试表明,在波数1100 cm~(-1)处出现较为明显的振动吸收峰,证明制备的薄膜中含有B_(12)二十面体结构,这也是薄膜具有超硬性的主要原因.薄膜摩擦磨损测试表明薄膜摩擦系数在0.07左右.