副教授 博士生导师 硕士生导师
任职 : 辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别: 男
毕业院校: 大连理工大学
学位: 博士
所在单位: 材料科学与工程学院
学科: 材料物理与化学. 材料表面工程
办公地点: 新三束4#楼311室
联系方式: 0411-84706661-101
电子邮箱: aimin@dlut.edu.cn
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论文类型: 期刊论文
发表时间: 2007-01-01
发表刊物: 原子能科学技术
收录刊物: PKU、ISTIC
卷号: 41
期号: z1
页面范围: 436-440
ISSN号: 1000-6931
关键字: 电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积;多晶硅薄膜;低温生长
摘要: 采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECvD)方法,以SiH4和H2为气源,在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜.利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜结构的影响.结果表明,制得的多晶硅薄膜多以(220)取向择优生长,少数条件下会呈现(111)择优取向.当衬底温度为300℃、H2流速为25 mL/min、微波功率为600 W时,多晶硅薄膜结晶状态最好,且呈最佳的(220)取向.