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论文类型： 期刊论文

发表时间： 2011-06-25

发表刊物： 哈尔滨工程大学学报

收录刊物： EI、PKU、ISTIC、CSCD、Scopus

卷号： 32

期号： 6

页面范围： 830-834

ISSN号： 1006-7043

关键字： ECR-PECVD;太阳能电池;薄膜;纳米硅

摘要： 为消除紫外线对硅基薄膜太阳能电池的热损害,并进一步提高电池转换效率,提出在硅基薄膜太阳能电池顶部低温下制备一薄层纳米硅薄膜.在P型(100)硅片上采用电子回旋共振微波等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD)技术交替沉积SiO2/Si/SiO2层,改变衬底温度和H2流量沉积纳米硅薄膜,探讨低温下直接制备纳米硅薄膜的工艺.实验结果表明,在低温下,薄膜以非晶相为主,局部分布有零星的网格状晶化相,随着温度的升高,晶化趋势增加,晶化相颗粒大小在5 ～8 nm;当H2流量在20 ～40 mL/min变化时,随着流量的增加,薄膜晶化相增多,纳米硅尺寸在5～10 nm,但H2流量超过30 mL/min后,随着H2流量的增加,薄膜晶化率下降,纳米硅颗粒减少.利用H等离子体原位刻蚀方法,可明显改善薄膜晶化效果,经原位刻蚀处理后纳米晶颗粒尺寸及分布比较均匀,颗粒大小在6nm左右.