副教授 博士生导师 硕士生导师
任职 : 辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别： 男
毕业院校： 大连理工大学
学位： 博士
所在单位： 材料科学与工程学院
学科： 材料物理与化学. 材料表面工程
办公地点： 新三束4#楼311室
联系方式： 0411-84706661-101
电子邮箱： aimin@dlut.edu.cn
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论文类型： 期刊论文
发表时间： 2009-08-15
发表刊物： 半导体光电
收录刊物： Scopus、PKU、ISTIC、CSCD
卷号： 30
期号： 4
页面范围： 558-561
ISSN号： 1001-5868
关键字： ECR-PECVD;氮化硅薄膜;沉积速率;表面形貌
摘要： /min.薄膜的粗糙度随着衬底温度和微波功率的增加而降低,粗糙度最低为0.89 nm,说明薄膜的表面质量较高.
