副教授 博士生导师 硕士生导师
其他任职：辽宁省能源材料及器件重点实验室副主任
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学
材料表面工程
办公地点：新三束4#楼311室
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发布时间：2019-03-10
论文类型：期刊论文
发表时间：2009-08-15
发表刊物：半导体光电
收录刊物：CSCD、ISTIC、PKU、Scopus
卷号：30
期号：4
页面范围：558-561
ISSN号：1001-5868
关键字：ECR-PECVD;氮化硅薄膜;沉积速率;表面形貌
摘要：/min.薄膜的粗糙度随着衬底温度和微波功率的增加而降低,粗糙度最低为0.89 nm,说明薄膜的表面质量较高.
