董闯

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:法国洛林国立综合理工学院

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

电子邮箱:dong@dlut.edu.cn

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论文成果

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真空离子镀技术在电镀工艺中应用

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论文类型:会议论文

发表时间:2012-09-01

页面范围:208-221

关键字:电镀工艺;真空离子镀技术;机理分析;成本控制

摘要:  电镀在工业中应用已久,但由于在电镀过程中有三废排放对环境污染严重,需大量投资治理又难根治,同时电镀过程产生六价铬及电镀层中镍、镉元素是致癌物质对人体有害。大连理工大学陈宝清教授等人1980年立项从事钢铁件、黄铜件、铝合金、锌基合金的《真空离子镀技术在电镀工艺中应用》课题研究,至今已有三十余年现已取得很好成果:①离子镀中间层合金十离子镀铬(呈银白色)②离子镀中间层合金十离子镀钛金(或锆金)+离子镀金十离子镀透明陶瓷保护膜(呈金黄色)。彻底解决电镀的缺点。有两项发明专利《钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺》及《钢铁工件真空离子镀超硬铬镀膜工艺代替现行电镀硬铬工艺》正在申请中国发明专利。真空离子镀技术在电镀工艺中应用势在必行。可以向社会提供技术及专用设备。